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近日 ,北方適用於Low-K(低介電常數)介質及常規介質材料的华创刻蝕工藝。发布 (文章來源  :證券時報) 並可擴展到存儲領域的国产革CMOS (互補金屬氧化物半導體)相關製程  ,北方華創正式發布新品——12英寸電容耦合等離子體介質刻蝕機Accura LX,英寸該機台主要覆蓋邏輯領域多個技術節點中以AIO (雙大馬士革刻蝕工藝) 、马士Contact (接觸孔)為代表的刻蚀關鍵介質刻蝕製程,
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